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Laurell ø200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機(jī) 清洗

  • 產(chǎn)品型號:WS-650-8B
  • 更新時(shí)間:2026-07-16

簡要描述:Laurell ø200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機(jī) 清洗 WS-650-8B,是一款臺式旋涂儀,主要用于在晶圓或基片上進(jìn)行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物技術(shù)和納米技術(shù)等行業(yè)。

產(chǎn)品詳情
品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,能源,電子/電池,綜合
Laurell WS-650-8B 是一款結(jié)構(gòu)緊湊、功能優(yōu)良的臺式旋涂儀,專為半導(dǎo)體、生物技術(shù)和納米技術(shù)領(lǐng)域的精密涂覆工藝而設(shè)計(jì)。

Laurell ?200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機(jī) 清洗


核心特點(diǎn)

  • 緊湊設(shè)計(jì):作為一款臺式設(shè)備,WS-650-8B 結(jié)構(gòu)緊湊,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間。

  • 強(qiáng)的大的兼容性:能夠處理直徑達(dá) 200毫米 的晶圓以及 7英寸×7英寸(178毫米×178毫米)的基片。

  • 高性能驅(qū)動:最高轉(zhuǎn)速可達(dá) 12,000轉(zhuǎn)/分鐘(以100毫米硅晶圓為基準(zhǔn)),滿足高精度涂覆需求。

  • 智能控制:配備650系列過程控制器,采用高性能微處理器,允許操作員在流程中實(shí)時(shí)交互(如暫停、停止、繼續(xù))。系統(tǒng)支持通過PC軟件進(jìn)行遠(yuǎn)程操作、記錄和編程,并可進(jìn)行固件升級。


關(guān)鍵技術(shù)與安全

  • 卓的越的耐化學(xué)性:設(shè)備外殼由勞雷爾自家研發(fā)的固態(tài)共聚物混合材料制成,能耐受溶劑、強(qiáng)酸和強(qiáng)堿。也可選配特氟龍®(Teflon®)外殼,適用于高溫化學(xué)工藝。

  • 潔凈工藝:采用封閉式腔體設(shè)計(jì)和專有的迷宮式密封,可有效防止化學(xué)品污染電機(jī)和電子元件,并支持氮?dú)獯祾?,確保在亞微米級別上無顆粒污染。

  • 多重安全保障:具備完的善的電氣隔離、防誤操作門聯(lián)鎖,并通過了ETL、UL、CSA、CE和RoHS等多項(xiàng)安全認(rèn)證,確保長期安全穩(wěn)定運(yùn)行。

  • 工藝保護(hù):獨(dú)特的“工藝保護(hù)"功能可防止在同一基片上意外重復(fù)運(yùn)行相同工藝,避免操作失誤。


豐富的選配項(xiàng)

WS-650-8B 提供多種選配項(xiàng)以滿足不同應(yīng)用需求:
  • 卡盤與適配器:提供數(shù)千種標(biāo)準(zhǔn)和定制的卡盤或適配器。

  • 安裝方式:支持臺面安裝、濕法工作臺內(nèi)安裝(IND)和防震基座安裝(OND)。

  • 真空系統(tǒng):可選配集成式可變氣動真空發(fā)生器(IV-PVG),無運(yùn)動部件,易于清潔。

  • 其他配件:包括可拆卸的工藝腔內(nèi)襯、晶圓對準(zhǔn)工具以及多種排氣和排液選項(xiàng)。


應(yīng)用領(lǐng)域

該系列設(shè)備通常用于基于溶劑、堿或酸的多種工藝,包括:
  • 涂覆

  • 刻蝕

  • 顯影

  • 沖洗-干燥

  • 清洗


Laurell ?200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機(jī) 清洗 WS-650-8B,是一款臺式旋涂儀,主要用于在晶圓或基片上進(jìn)行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物技術(shù)和納米技術(shù)等行業(yè)。

Laurell ?200mm晶圓 濕法旋涂儀勻膠機(jī) 清洗 WS-650-8B,是一款臺式旋涂儀,主要用于在晶圓或基片上進(jìn)行涂覆、刻蝕、顯影、清洗等精密工藝。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物技術(shù)和納米技術(shù)等行業(yè)。



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