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Sonosy兆聲波清洗機(jī)發(fā)生器換能器 儀器 13790-023 400 kHz 5 MHz 兆聲波噴嘴中的換能器產(chǎn)生兆聲波，通過(guò)流動(dòng)介質(zhì)（例如去離子水）傳遞到基板表面。兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的窄點(diǎn)上。
更新時(shí)間：2026-06-10
Sonosys Megasonic 兆聲波清洗機(jī)發(fā)生器儀器 13790-023 400 kHz 到 5 MHz ，兆聲波噴嘴中的換能器產(chǎn)生兆聲波，通過(guò)流動(dòng)介質(zhì)（例如去離子水）傳遞到基板表面。兆聲波能量集中在2毫米或4毫米的窄點(diǎn)上。SONOSYS® 兆聲波噴嘴的頻率有600kHz / 1MHz / 2MHz / 3MHz / 4MHz / 5MHz和9MHz。頻率越高，清洗越溫和
更新時(shí)間：2026-06-10
ProSys儀器MegPie V3兆聲波Megasonic換能器，該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體制造中的晶圓清洗和聲化學(xué)處理。
更新時(shí)間：2026-06-10
SONOSYS 超聲波發(fā)生器 2MHz+4MHz 兆聲 噴嘴 MSMO032090E / 13407-091，該產(chǎn)品是SONOSYS®兆聲波霧化系統(tǒng)，通過(guò)高頻聲波將液體霧化成約3微米的微細(xì)顆粒。主要用于半導(dǎo)體晶圓、平板顯示器及太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的精密噴霧、化學(xué)品分配和微清洗，確保高精度與無(wú)顆粒污染的工藝要求
更新時(shí)間：2026-06-26
IMTEC Accumeg 半導(dǎo)體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發(fā)生器，Accumeg™系統(tǒng)主要用于半導(dǎo)體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術(shù)（頻率為975 kHz或730 kHz）進(jìn)行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設(shè)備提供石英和PVDF兩種槽體材質(zhì)，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達(dá)70°C或130°C）......
更新時(shí)間：2026-07-07
Kokusai 高頻超聲波清洗機(jī) 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的高精度清洗，適用行業(yè)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。其具體用途包括半導(dǎo)體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導(dǎo)體制造設(shè)備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。
更新時(shí)間：2026-07-07
Kokusai Electric晶圓兆聲波清洗機(jī) 振動(dòng)板，UO1200PMCX 730kHz/1MHz，該產(chǎn)品是用于半導(dǎo)體制造的高頻超聲波振子，通過(guò)730kHz或1MHz頻率實(shí)現(xiàn)低損傷、高潔凈度清洗。主要適用于晶圓、光刻掩模等精密清洗環(huán)節(jié)，是半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)鍵制程設(shè)備的核心組件。
更新時(shí)間：2026-07-07
德國(guó)sonosys 微顆粒無(wú)損 高頻超聲波清洗機(jī) 750kHz~4MHz，SONOSYS超音波清洗器利用20kHz~4MHz寬頻超音波振動(dòng)，對(duì)精密部件進(jìn)行高效清洗，其中高頻兆聲波（750kHz~4MHz）專攻亞微米級(jí)顆粒去除，同時(shí)不損傷工件表面，清洗時(shí)間約10~30分鐘，廣泛適用于半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)鏡頭、MEMS傳感器、醫(yī)療器材及航空航天精密零件等對(duì)潔凈度和表面完整性要求非常高的行業(yè)。
更新時(shí)間：2026-06-29
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